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活性氧离子除臭设备技术

活性氧离子除臭设备技术


活性氧离子除臭原理
 
恶臭气体在光解双离子深度氧化系统中,经过四段氧化:裂解氧化、催化氧化、双离子氧化、吸附氧化,化合键发生断裂,得到最终产物水、二氧化碳及低分子无毒无味化合物。
 
裂解氧化

 
本系统装配大功率低压水银紫外(UV)放电管,产生大量高能紫外线。其中 170nm 及 185nm 波段紫外线能打断 NH3、H2S、苯等绝大部分无机或有机高分子恶臭化合物的化学键,使其裂解为独立的、呈游离状态的原子。进而被紫外线产生的具有强氧化性的臭氧氧化,重新聚合成低分子的化合物。
 
催化氧化
 
纳米光触媒 TiO2 吸收波长阈值在紫外区域,当吸收 254nm 波段的紫外光后,其价带电子发生带间跃迁,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。吸附在纳米光触
 
TiO2 颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的 OH-和 H2O 氧化成·OH。从而具有很强氧化性的超氧负离子和·OH,能将绝大多数的有机物氧化,并消除剩余 O3 分子。
 
v 双离子氧化
 
双离子氧化段引进韩国 SUDO 公司高能离子束技术(SPE),通过特有介质阻挡放电技术产生大量高能活性氧离子(产生量远高于其他离子技术),以及少量自由羟基。由于活性氧较高的能量和电压储值而与恶臭物质产生活跃的化学反应,将恶臭分子氧化脱臭。
 
吸附氧化
 
吸附氧化段采用特制纳米矿晶石,内表面附着氧离子,有很强的氧化作用。当剩余未反应的恶臭分子和紫外灯管产生的氮氧化物经过活性炭时,被氧离子氧化。同时活性炭还能吸附各段氧化产生的化合物,得到最终无害产物水和二氧化碳。
 
本系统实际上是特殊波段的高能裂解、臭氧对废气分子分解氧化、催化剂将反应增速放大、双离子的深层净化等一系列功能的协同作用,使异味物质降解转化成无毒无味的低分子化合物、水及二氧化碳,达到净化空气的作用。
 

活性氧离子技术原理图
 

活性氧离子系统除臭特点及优势
 
高效除恶臭
 
能充分有效利用各波段紫外线,对挥发性有机物(VOCs)、硫化氢、氨气、硫醇类等主要恶臭物质,去除效率可达 95%,脱臭效果大大超过国家颁布的《恶臭污染物排放标准(GB14554-93)》中的一级 15 米高空排放标准。
 
无需添加任何物质
 
只需要设置相应的排风管道和排风动力,无需添加任何物质参与化学反应,没有二次污染。
 
适应性强
 
可适应中低浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,可每天 24小时连续工作,运行稳定可靠。
 
运行成本低
 
本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查。本设备能耗低,只需电费,没有其他耗材。
 
设备占地面积小
 
适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件,设备占地面积< 10m2/ 处理10000m3/h 风量。

活性氧离子系统工艺组成
 

 

活性氧离子系统应用领域

 

 

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